界面テクノロジー研究会は1996 年から2015 年まで20 回にわたり開催されてきた「極薄シリコン酸化膜の形成?評価?信頼性研究会」,「ゲートスタック研究会 —材料?プロセス?評価の物理—」の歴史を継承し,第21 回より対象を広げ,新たな名称のもとスタートしました。各分野からの招待講演者のほかに,一般の口頭発表,ポスター発表を広く募集し、本年も1月25,26日の両日にわたり、約70件の論文発表が行われ盛大に開催されました。今回の受賞は単に発表論文の内容だけではなく、会議全般を通じてディスカッションをリードし、研究会における議論の深化に貢献したことが評価されました。
なお、本研究会では本学が早稲田大学などと共同で遂行している闯厂罢(科学技术振兴机构)颁搁贰厂罢(创造研究推进事业)课题、研究领域「微小エネルギーを利用した革新的な环境発电技术の创出」」より「プレーナ型スケーラブル热电発电机构の実証と展开」に関する研究成果を报告しました。